1，隨著氣體壓力升高，在弧光放電過程中，單位時(shí)間內(nèi)碰撞次數(shù)增加，電子與其他重粒子之間發(fā)生充分的能量交換，電子溫度與氣體溫度，離子溫度逐漸趨于相等，等離子體由非平衡狀態(tài)過渡到熱平衡狀態(tài)。2，等離子體相對(duì)

光學(xué)鍍膜機(jī)主要由真空鍍膜機(jī)室、真空抽氣機(jī)組及電柜（控制電柜、電子槍電柜）組成，其廣泛應(yīng)用于微電子、光學(xué)成膜、民用裝飾、表面工程等領(lǐng)域。 光學(xué)鍍膜設(shè)備工作原理是在高真空狀態(tài)下、利用電子束對(duì)金屬或非

離子源燈絲的使用周期會(huì)因使用者的使用習(xí)慣和維護(hù)程度不同而千差萬別。發(fā)現(xiàn)離子源燈絲需要清洗時(shí)，使用者應(yīng)該更具說明仔細(xì)的進(jìn)行操作，正確的清洗和重新安裝是至關(guān)重要的。除了對(duì)離子源燈絲本身的清洗，還應(yīng)該考慮到

為了使晶振片壽命最長(zhǎng)，蒂姆新材料整理了一些方法和技巧供您參考：1.總是用攝子來挾住晶振片的邊緣，不要碰晶振片中心。因?yàn)榫д衿駝?dòng)的活躍中心，任何灰層，油污都會(huì)降低晶振片的振動(dòng)能力。新的晶振片使用之前應(yīng)

噴砂按工藝目的可分為：（1）表面清潔（2）刃口細(xì)化（3）改善鈷流失表面（4）涂層后處理。按噴砂的工藝方法分有干噴砂和濕噴砂。按操作方式可分為自動(dòng)噴砂機(jī)和手動(dòng)噴砂機(jī)。大部分干式噴砂機(jī)都配置有自動(dòng)噴砂功能

真空聯(lián)機(jī)密封性能取決于聯(lián)接處的泄露和真空材料的放氣。對(duì)任何真空系統(tǒng)總希望漏、放氣量與密封形式、密封材料、加工精度及裝配質(zhì)量等諸多因素有關(guān)，故在聯(lián)接處總會(huì)存在一定的漏、放氣量，因此可根據(jù)真空系統(tǒng)工作的性

泵用機(jī)械密封種類及型號(hào)各異，泄漏點(diǎn)主要有五處：（l）軸套與軸間的密封；（2）動(dòng)環(huán)與軸套間的密封；（3）動(dòng)、靜環(huán)間密封；（4）對(duì)靜環(huán)與靜環(huán)座間的密封；（5）密封端蓋與泵體間的密封。1.安裝靜試時(shí)泄漏

1、材料對(duì)比 ⑴ TiC TiC是最常見、最經(jīng)濟(jì)的一種黑色硬質(zhì)膜。顏色可以做到比較深，耐磨性能也很好，但其色調(diào)不夠純正，總是黑中略帶黃色。并且由于鈦的熔點(diǎn)相對(duì)較低，在濺射時(shí)易出現(xiàn)大的顆粒

電弧穩(wěn)定性的影響因素：磁場(chǎng)、陰極表面的清潔程度、靶面的幾何尺寸、幾何形狀及表面狀態(tài)、陰極靶面的表面溫度、電弧電流的大小、真空室內(nèi)真空度及各組分氣體分壓種類等。磁場(chǎng)對(duì)電弧穩(wěn)定性的影響：在無外加磁場(chǎng)的情況