磁控濺射鍍膜是現(xiàn)代工業(yè)中不可缺少的技術(shù)之一，磁控濺射鍍膜技術(shù)正廣泛應(yīng)用于透明導(dǎo)電膜、光學(xué)膜、超硬膜、抗腐蝕膜、磁性膜、增透膜、減反膜以及各種裝飾膜，在國防和國民經(jīng)濟(jì)生產(chǎn)中的作用和地位日益強(qiáng)大。鍍膜工藝

在真空鍍膜設(shè)備真空裝置自動控制中，往往要進(jìn)行真空測量，由于真空裝置種類繁多、工作壓力范圍也不盡相同，因此，從105Pa—10-5Pa各真空區(qū)域的真空測量塢會遇到。通常使用的真空計(jì)有電阻真

眾所同知,真空鍍膜中常用的方法有真空蒸發(fā)和離子濺射,那么,蒸發(fā)鍍膜和濺射鍍膜有什么區(qū)別?不少新手朋友有這樣的疑問,下面小編為大家做出的相關(guān)講解。 真空蒸發(fā)膜是在真空度不低于10-2Pa的環(huán)境中,用電阻

常用物理氣相沉積技術(shù)（PVD）之蒸鍍、濺射、離子鍍，這三種技術(shù)都要在真空條件下才能得以實(shí)現(xiàn)。制備現(xiàn)代薄膜材料，不管是物理氣相沉積技術(shù)（PVD），還是化學(xué)氣相沉積技術(shù)（CVD），都要涉及真空條件下氣相產(chǎn)

燈絲控制極窗口靠近發(fā)射電子多，在同樣的電源電壓及束流下（束流為陽極截獲電流與坩堝中電流之和）蒸發(fā)速率就快，但易受離子攻擊，導(dǎo)致燈絲壽命縮短。燈絲與控制極（聚束極）國內(nèi)、國外設(shè)備裝配尺寸可以相同，都是同

進(jìn)行離子源操作時需要戴清潔的手套。清洗離子源分為以下三個步驟：1、取出離子源。停止真空后，擰松真空艙旋鈕，拉開艙門，用鑷子拔下排斥極擋片，把導(dǎo)線移到左邊，把離子源安裝桿放在離子源上，用一字螺絲刀把離子

多弧離子鍍概念簡單說,多弧離子鍍的原理就是將陰極靶作蒸發(fā)源,通過靶與陽極殼體之間的弧光放電, 使靶材蒸發(fā), 從而在空間中形成等離子體,對基體進(jìn)行沉積 。離子鍍技術(shù)是結(jié)合蒸發(fā)與濺射技術(shù)而發(fā)展的一種 PV

雖然石墨坩堝擁有體積密度大、耐高溫、傳熱快、耐酸堿侵蝕、高溫強(qiáng)度大、抗氧化性能高等特點(diǎn)，但是對于個別原料的煉制，在坩堝使用以后的清理工作卻很麻煩。石墨坩堝的清洗首要進(jìn)行的工作是將坩堝內(nèi)的化學(xué)物質(zhì)清理出

電子槍是對電子轟擊靶屏發(fā)光進(jìn)行加速的一種裝置，電子槍的功能在于給出滿足要求的電子束，在挑選電子槍的材料和工藝結(jié)構(gòu)時，需要考慮到電子槍易于加工和使用方便。電子槍的陰極對其壽命的長短起決定性作用，而陰極的